天极网1月22日消息 台积电日前宣布，该公司针对高性能应用推出的80纳米半世代制程技术(*由90纳米制程直接以微影缩小)已经进入量产，绘图芯片双雄NVIDIA与ATI成为最早使用台积电80纳米制程的客户。
使用台积电80纳米制程的客户，芯片性能较90纳米制程提升、芯片尺寸进一步缩小，最多可达19%，不但每片晶圆产出的晶粒数增加，并且每颗晶粒的成本可以节省超过20%以上。
台积电表示，我们持续提供半世代制程技术供客户选择，为客户提供了一个简便的制程微缩方案，以达成芯片性能增加、面积减少及良率提升等功能，为客户带来单颗芯片成本降低的竞争优势。
ATI认为，先进的制程技术让我们的绘图芯片获得成本及性能上的竞争优势，率先使用90纳米制程技术，使得芯片性能与特色具有领导地位，进而采用80纳米制程技术也将会降低我们的成本。
NVIDIA也表示，我们与台积电在半世代制程技术便持续维持策略合作关系。面对竞争激烈、以消费性产品为导向的市场中，能够快速将产品设计导入具备更高性能、更小面积的制程技术是一个相当重要的能力。
台积电独有的半世代制程做法多年来一直相当成功，首次推出的是0.30微米制程，由0.35微米制程微缩而来，接着又陆续推出0.22微米(0.25微米)、0.16微米(0.18微米)以及0.11微米(0.13微米)制程技术。
台积电推出的第一个80纳米制程技术系高性能的GT (General Turbo)制程，并计划在今年二月份及三月份分别推出高速的HS (High Speed)制程技术及低耗电量的LP (Low Power)制程。此外，预计于今年第三季针对消费性产品推出特殊的GC (General Consumer)制程技术，此制程技术同时具备低操作耗电量及低待机耗电量的优势。
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